电子制造业超纯水处理解决方案

1. 电子生产用水标准

电子制造业的生产用水通常受到严格控制，以确保产品质量。电子元件工厂的生产用水必须是超纯水（UPW），仅含有氧和氢两种成分。

在电子工厂中，超纯水通常用于以下生产环节：

• 生产过程中半导体元件的清洗。
• 用于清洁、刻蚀、硅表面氧化、电镀准备等工艺。
• 其他应用于半导体器件、薄膜器件、发光二极管（LED）、成像设备、印刷电路板（PCB）、存储设备、真空设备或电子设备的研发与制造。

电子生产用水标准根据生产设备的尺寸而定，具体如下：

指标	E1级	E1.1级	E1.2级	E2级	E3级	E4级
电子设备线宽 (微米)	1.0-0.5	0.35 – 0.25	0.18 – 0.09	5.0 – 1.0	>5.0	–
电阻率 (250C) (在线)	18.1	18.2	18.2	16.5	12	0.5
TOC (mg/l) (在线 < 10 ppb)	5	2	1	50	300	1000
溶解氧 (mg/l)	25	10	3	–	–	–
蒸发残渣 (mg/l)	11	0.5	0.1	–	–	–
细菌 (CFU/ 100 ml)	5	3	1	10	50	100
总硅 (mg/l)	5	3	1	10	50	1000
溶解硅 (mg/l)	3	1	0.5	–	–	–
氨氮	0.1	0.1	0.05	–	–	–
氯化物	0.1	0.05	0.02	1	10	1000
氟化物	0.1	0.05	0.03	–	–	–
硝酸盐	0.1	0.05	0.02	1	5	500
磷酸盐	0.1	0.05	0.02	1	5	500
硫酸盐	0.1	0.05	0.02	1	5	500
钙	0.05	0.02	0.002	–	–	–
镁	0.05	0.02	0.002	–	–	–
锰	0.05	0.02	0.002	–	–	–
镍	0.05	0.02	0.002	1	2	500
钾	0.05	0.02	0.005	2	5	500
钠	0.05	0.02	0.005	1	5	1000

(*) 水质等级应用建议：

E1级：用于生产线宽为0.5至1 mm的设备。

E1.1级：用于生产线宽为0.25至0.35 mm的设备。

E1.2级：用于生产线宽为0.09至0.18 mm的设备，适用于最关键的生产应用。

E2级：用于生产尺寸为1至5 mm的设备。

E3级：用于生产尺寸大于5 mm的设备，适用于大型元件及对少量杂质不敏感的组件。

E4级：通常用于电镀液及其他对水质要求较低的应用。

2. 电子生产供水来源：

目前在越南，电子生产供水主要有两种来源：地下水或市政自来水。

然而，目前的地下水质量难以保证，且存在受人类生产生活活动影响而导致重金属、微生物污染的风险。因此，电子制造企业必须对进水进行深度处理。

3. NGO提供的电子生产供水处理解决方案：

NGO的技术与方案优势

• 可从不同处理阶段取水，满足生产线各工序需求；最终出水为超纯水，符合当前最严苛的质量要求。
• 设备均从全球知名品牌进口，质量认证可靠。
• 过滤系统产生的浓水可回收利用。
• 运行能耗低，仅约 0.06~0.12 KWH/m3。
• 可与废水处理系统集成，构建零排放（ZERO-DISCHARGE）解决方案。
• 在线控制系统，严格监控系统运行的各项参数。
• 拥有经验丰富的跨国技术顾问团队。
• 提供专业的售后技术支持与维护保养服务。

电子元件制造企业如需了解进水处理解决方案，请通过电话 024.7300.0890 或电子邮件 office@8ngo.com 联系 NGO 获取专业咨询。

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